摘 要：本文主要研究了GTEM 在輻射EMI 中的應用，主要采用多項式修正方法對GTEM 現有的三種計算方法進行修正，通過將GTEM 在輻射EMI 中的測量結果與暗室進行對比，大大提高GTEM 小室用于輻射EMI 的測試精度。

關鍵詞：GTEM 小室，EMI 測量，精度補償

1 前言

1.1 GTEM 的一般應用現代電子產品正向小型化、智能化發展，開關器件頻率越來越高，設計更加復雜，使設備遭受輻射電磁干擾問題日益加重，并且對系統的抗干擾能力的要求越來越高。因而，為了節省產品開發費用與時間，進行輻射電磁干擾噪聲測試研究是*的。

目前針對電子產品輻射電磁干擾噪聲測試的標準測試方法主要是指開闊場測試以及3m，5m，10m 電波暗室測試。但是開闊場測試以及3m，5m，10m 電波暗室對場地要求較高且造價昂貴，一般企業無法承受。利用GTEM 小室進行輻射EMI測試既能減少測試費用，又能很好地預估輻射電磁干擾噪聲，引起了廣泛的關注。

關于GTEM 小室用于輻射電磁干擾測量的研究方法通常計算精度不高、實現復雜，且分析結果常與標準測試值存在一定差距，因此需要深入研究將GTEM小室的測量結果對比3m 電波暗室的標準檢測結果對GTEM 小室進行校準，為GTEM 小室用于輻射電磁干擾噪聲測量提供理論依據。

1.2 本文對EMI 的設計與分析

針對目前利用GTEM 小室進行輻射EMI 測試時精度較低且沒有進行噪聲源分類的問題，本文主要介紹了一種既適用于共模輻射特性為主，又適用于差模輻射特性為主的的設備的GTEM 測量結果修正方法。該方法通過修正現有總功率、Wilson、Lee 方法，進一步提高了GTEM小室測量輻射EMI 噪聲精度。

針對GTEM 小室用于輻射發射的測試實驗，本文對共模模型和差模模型分別進行了測量校準實驗，通過采用多項式修正方法，從而大大提高了GTEM 小室用于輻射EMI 測試時的測試結果精度，為基于GTEM 輻射EMI 測量提供了有效參考

2 EMI 評估模型設計與分析

目前主要有三種GTEM 小室與遠場標準測量的關聯算法, 但是目前這三種算法得出的結果與電波暗室結果進行對比，精度較低。

2.1 用于EMI 分析的GTEM 小室模型

該GTEM 小室是由蘇州泰思特電子科技有限公司和江蘇省電氣裝備電磁兼容工程實驗室合作設計的，其物理結構中包括：上、下蓋板，前、后側板，后蓋，芯板，分布電阻面陣，托架，導軌, 屏蔽門，饋源頭，終端截角，轉臺，電源接口和濾波，通風及屏蔽設計等。GTEM 小室外觀及其尺寸如 圖1 所示，其總長為3 米，zui大測量尺寸為：30cm×30cm×20cm（L×W×H），

GTEM 小室實物如圖2 所示.

         圖1 GTEM內部結構

           圖2 GTEM小室實物

圖3 GTEM小室測量布置

根據電壓型驅動電路，本文用一個共模源和一個差模源進行實驗。為了有效提取GTEM 小室所測該電路輻射電磁干擾，本文在實驗中采用了羅德施瓦茨頻譜分析儀ROHDE&SCHWARZ FSC3。測試過程中，頻譜儀頻譜測試范圍設置為30 MHz~1 GHz，根據三種不同算法得到等效3 m 法電波暗室中的測量結果，并將這一結果與3 m 電波暗室中的標準測試結果進行比較。

2.2 總功率算法

根據該輻射體在GTEM 小室中的總輻射功率(2-1)，可得到其在等效遠場的zui大輻射場強：

計因此可得到GTEM 小室等效遠場測量結果，與標準測量值進行比較，所得結果如圖4、圖5 所示。其中圖4 為共模模型的總功率算法結果與暗室結果對比，圖5為差模模型的總功率算法結果與暗室結果對比，從圖中我們可以看出這兩個結果的大致趨勢是相同的，但是幅值上相差20-30dB 左右，其精度還有很大的提升空間。

圖4 共模模型總功率算法結果和暗室結果對比

圖5 差模模型總功率算法結果和暗室結果對比

2.3 Wilson 算法

 根據頻譜分析儀測得的電壓值可計算GTEM 小室端口輸出功率，而GTEM 小室的輸出功率可以由輻射體的等效電偶極矩和磁偶極矩表示。不考慮輻射電場或磁場

的相位，該輻射體在GTEM 小室的測量結果轉換成等效遠場輻射電磁場在x, y, z 三個方向上的分量為：

r 為測試距離，k0 =2π/λ 為波數即電磁波傳播單位長度所引起的相位變化,η0=120πΩ=377Ω 為自由空間波阻抗。 由這種算法可得到GTEM 小室等效遠場測量結果，與暗室結果進行比較，所得結果如圖6、圖7 所示。其中圖6 為共模模型的總功率算法結果與暗室結果對比，圖7 為差模模型的總功率算法結果與暗室結果對比，從圖中我們可以看出這兩個結果的大致趨勢是相同的，但是幅值上相差20dB 左右，其精度還有很大的提升空間。

圖6 共模模型wilson算法與暗室結果對比

圖7 共模模型wilson算法與暗室結果對比

2.4 Lee 算法

該算法給出了同一輻射體在GTEM 小室的輸出電壓與它在等效開闊場或半暗室的輻射遠場關系的直接計算公式，其在Wilson 法的基礎上考慮了輻射體等效電偶極矩和磁偶極矩的相位, 為此要求輻射體在GTEM 小室中測試時在每種位置上要旋轉5 個角度，以獲得共15 個GTEM 小室輸出端口電壓數據。通過其方法，水平極化電場可表示為：電場可表示為：

從電波暗室結果和GTEM 小室結果的對比（如圖8、圖9）可以看出，GTEM 小室所得的電場值隨頻率的變化趨勢與標準檢測結果一致，其中圖8 為共模模型的總功率算法結果與暗室結果對比，圖9 為差模模型的總功率算法結果與暗室結果對比，雖然較前兩種算法來說，GTEM 結果更加接近于暗室結果了，但是相對暗室結果來說還是有10-20dB 的誤差，因此可以采用補償方法對GTEM 小室進行校準。

 圖8 共模模型Lee算法結果與暗室結果對比

圖9 差模模型 Lee 算法結果與暗室結果對比

3 多項式修正法

多項式修正法是指將GTEM 小室結果與電波暗室結果對應頻點數據極差求和取平均（記為S’）后補償到GTEM 小室結果上。公式為：

xi 是各頻點下電波暗室測試結果，XGTEMi 是對應頻率點GTEM 小室測試結果，A 為(a0, a1, ...,am) ；x 為GTEM 小室測得的輻射電場值；Ei 為該模型計算的GTEM 小室等效遠場場強值；ak 為待定系數，由GTEM小室測量值xi 與標準測量值yi 共同確定。

4 實驗結果

4.1 共模模型測量結果對比

采用多項式修正方法對共模模型進行校準之后，得到了三種算法新的結果，將每種算法的結果再與暗室結果進行對比，結果分別如圖10、圖11、圖12 所示。從三幅圖中我們可以看出，經過校準后的輻射噪聲頻譜圖與3m 電波暗室中的標準頻譜圖的變化趨勢以及數值大小基本一致，校準后使得GTEM 小室的測試結果與標準結果的吻合程度大大提高

　　圖10 共模模型總功率算法改進方法結果

圖11 差模模型Wilson算法改進方法結果

 圖12 共模模型Lee算法改進方法結果

 圖13 差模模型總功率算法改進方法結果

 圖14 差模模型Wilson算法改進方法結果

 圖15 差模模型Lee算法改進方法結果

4.2 差模模型測量結果對比

差模模型的測量經過校準后的輻射噪聲頻譜圖與3m 電波暗室中的標準頻譜圖的變化趨勢以及數值大小也基本一致，校準后使得GTEM 小室的測試結果與標準結果的吻合程度大大提高。采用多項式修正方法對共模模型進行校準之后，得到的三種算法新的結果與暗室結果進行對比，結果分別如圖13、圖14、圖15 所示。

5 總結

本文選取了多項式精度校準方法對GTEM 小室的輻射噪聲測量結果進行修正，并且對于共模為主的輻射源和對于差模為主的輻射源修正效果都很明顯，GTEM 測量數據進行修正后，對于輻射電場曲線的描述更加準確。從實驗結果對比來看，在進行精度校準值之后，在低頻段（30MHz-150MHz）的改進效果較差，精度的提高并不明顯。但是在高頻段（150MHz-1GHz）的改進效果較好，與暗室結果的趨勢和幅值都很接近。

實驗結果表明，校準后的GTEM小室測量結果精度明顯提高，為GTEM 小室用于輻射電磁干擾噪聲測試提供理論依據。

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